اين اختراع مربوط به روشي براي ساخت دي اكسيد تيتانيوم نانوكريستالي تك فاز است. بدين وسيله روشي براي تهيه فتوكاتاليست دي اكسيد تيتانيوم تك فاز - آناتاز - با اندازه ذرات در مقياس نانومتري در دماي اتاق بدون نياز به عمليات زينترينگ در دماي بالا ايجاد شده است. اين روش شامل افزودن پيش ماده تيتانيومي به حلال حاوي اسيد و سپس هم زدن محلول حاصل تا دستيابي به محلول كلوئيدي پايدار نانو كريستالي دي اكسيد تيتانيوم با فاز آناتاز در دماي اتاق مي باشد. در نهايت اين محلول كلوئيدي بر روي زير لايه اي جهت ساخت لايه هاي آب دوست لايه نشاني مي شود.

در اين اختراع نانو كامپوزيتي حاوي 30 درصد نانو ذرات سيليكاي اصلاح سطح شده در زمينه رزين اپوكسي ساخته شد. سطح نانو ذرات سيليكا به وسيله عامل جفت كننده سيلاني GPTMS در محيط اتانول اصلاح شد. براي اين منظور، سل حاوي نانوسيليكاي اصلاح سطح شده به رزين اپوكسي افزوده و دو ماده با يكديگر مخلوط شدند. سپس با استفاده از خلاء گاززدايي از مخلوط انجام شد و براي گاز زدايي بيشتر و هموژن شدن ، مخلوط تحت عمليات التراسونيك قرار گرفت. در نهايت نانو كامپوزيت قالبگيري شد و در دماي 150 درجه سانتي گراد به مدت 10 ساعت پخته شد.