خلاصه افزايش سطح فعال پوشش پلاتين نقشي موثري در افزايش فعاليت كاتاليستي پوشش هاي مزبور دارد. يكي از روش هاي افزايش اين سطح، ارتقا،مورفولوژي پوشش به ساختار نانو مي باشد. در اين اخترع از فرآيند آبكاري پالسي بدين منظور استفاده شد. از محلول آبكاري Q , براي ايجاد پوشش پلاتين بر روي نيوبيوم استفاده شد. فرآيند آبكاري پالسي در فركانس هاي 2/5,5,7/5,15,30,60,90 Hz در چرخه كاري 10% ، 30%، 50% در دانسيته جريان هاي 3, 6, 9 mA/cn3 و در دماهاي 87, 92, 97 C انجام شد. پس از دست يابي به نمونه هاي پوشش، مطالعات ولتامتري چرخه اي، AFM ,SEM و زبري سنجي بر روي آنها انجام گرفت. بررسي ها نشان داد كه شرايط بهينه براي دست يابي به پوشش پلاتين نانو ساختار عبارتند از: فركانس l5Hz , چرخه كاري 30%: دانسيته جريان 2mA/cm6 و دما ºC92 . فرآيند آبكاري پالسي توانست مورفولوژي سطح را به سمت مخروط هاي مرتفع و نوك تيز با پهناي كمتر از 100nm ارتقا، دهد كه در مجموع سطح ويژه بالاتري نسبت به سطح مورفولوژي پلاتين در حالت نيم كره ايجاد خواهد كرد. به علاوه، ترك هاي موجود در پوشش در اين روش نسبت به فرآيند آبكاري با جريان مستفيم داراي عرض كمتري مي باشند.