خلاصه اختراع: اين اختراع به يك لوله پوششي هدايت گاز گرم مربوط است كه مشتمل بر يك مجراي گاز گرم با مقطع حلقوي است كه در آن كانال گاز گرم به واسطه يك ديواره داخلي و به صورت خارجي توسط يك پوشش ديوار بيروني با حداقل يك ورودي ورودي گاز گرم ارائه شده است، و در انتهاي آن توسط يك ديواره انتهايي پوشش بسته شده است كه ديواره داخلي و ديوار خارجي پوشش را به يكديگر متصل مي كند، و در انتهاي ديگر، خروجي گاز گرم حلقوي است، كه در آن يك شبكه اتصال حلقوي از داخل ديوار داخلي به سمت درهاي داخلي امتداد مي يابد، و در آن كه شبكه اتصال در طول حاشيه آن با اسلات هاي متعدد دارد كه از طريق شبكه اتصال در جهت محوري عبور مي كند و هر كدام داراي حداقل يك بخش اوليه است كه به سمت بيرون امتداد مي يابد و از انتهاي باز شبكه اتصال عبور مي كند. اين اختراع همچنين به يك كارخانه توربين گازي داراي چنين لوله پوششي هدايت گاز گرم نيز مربوط است.

سيستم كاتاليكي متشكل از الف) حداقل يك تركيبي از دست كم يك فلز كه منتخبي از پالاديم پلاتين و اسميم مي باشد. و ب) حداقل يك مايع يوني متشكيل از يك كاتيون غير پروتوني و حداقل يك آنيون مخلوط منتخبي از تركيبات گروه منتخبي مي باشد.

راكتور (واكنشگر ) اصلاح كننده متراكم

سيستم كاتاليكي و كاربرد آن براي توليد وينيل كلريد از طريق هيدروكلريد كردن استيلن سيستم كاتاليكي بطور عمده حاوي حداقل يك مايع يوني متشكل از حداقل يك كاتيوم غير پروتوني و حداقل يك آنيون منتخبي از كلريد و متان سولفونات مي باشد و كاربرد آن در واكنش هيدروكلريد كردن استيلن با كلريد هيدروژن مي باشد.

1- يك واكنشگاه (راكتور) بستر ثابت با لايه هاي نازك داراي ضخامتي در طيف 10 تا 500 ميلي متر كه به منظور تصفيه و بهسازي ذرات جامد با اندازه 30 الي 100 ميكرون مي باشد. واكنشگاه مذبور متشكل است از يك اسمبلي مدول هاي (M) مشابه كه بطور متوازي عمل مي كند و در يك ظرف مشترك (R ( كه پوسته واكنشگاه مزبور را تشكيل مي دهد محصور مي باشند. هر مدول مشتمل هست بر: - لااقل يك پوسته (p) جزئاً متخلخل كه هر لايه نازك ذرات را مي پوشانند و داراي وسائل سابق الذكر جهت تخليه آن از پوسته ؛ - يك افشانه (diffuser) براي گاز معرف ، كه به رويه بيروني متخلخل پوسته متخلخل جفت شده است - يك كلكتور (Cl) جهت مايع بيرون ريزنده مربوط به رويه بيروني متخلخل پوسته مذكور - يك لوله C براي بازيابي مايع بيرون ريزنده واكنش، كه مرتبط با قسمت بيروني .اكنشگاه مي باشد - يك لوله S براي پذيرش جسم جامد كه بايد در داخل پوسته متخلخل تصفيه گردد - دسته مدول هاي M در داخل واكنشگر ها طوري قرار گرفته اند كه يك مجموعه قطعات همگذاري شده با يك شكل مسطح يا استوانه اي را تشكيل مي دهند 2- يك واكنشگاه بستر ثابت با لايه هاي نازك ادعاي 1 كه در آن مقدار مواد جامد مورد تصفيه در هر مدول تشكيل دهنده واكنشگاه، در طيف 50 تا 1000 كيلوگرم و ترجيحاً در طيف 100 تا 500 كيلوگرم است. 3- يك واكنشگاه بستر ثابت با لايه هاي نازك طبق ادعاي 1 يا ادعاي 2 كه در آن ، مجموعه لوله ها E جهت پذيرش گاز معرف، ، لوله S جهت پذيرش مواد جامد تصفيه شدني و لوله C جهت جمع آوري مايعات بيرون ريزنده در يك فلانچ سر لوله ( پيوند لوله) فوقاني بكار رفته است كه قسمت بالاي واكنشگاه را مي بندد. 4- يك واكنشگاه با بستر ثابت طبق يك از ادعا هاي1 تا 3 كه در آن، مدول هاي داراي يك شكل مسطح با ارتفاعي در طيف 0.5 تا 4 متر پهناي در طيف 0.5 تا 4 مترو يك ضخامت لايه مواد جامد تضفيه شدني در طيف 50 ال 300 ميلي متر و ترجيحاً 100 الي 200 ميلي متر مي باشند. 5- يك واكنشگاه بستر ثابت با لايه نازك طبق هر يك از ادعا هاي 1 تا 4 كه در آن، تعداد مدول هاي واكنشگاه از 2 تا 20 و ترجيحاً 4 تا 12 مي باشد. 6- يك واكنشگاه بستر ثابت با لايه هاي نازك طبق هر يك از ادعا ها 1 تا 5 كه در آن نسبت به افت فشار خطي در سر تات سر لايه نازك (DP به Z) به فشار در قسمت خروجي لايه نازك (Ps) در طيف 0.1 تا 10m-1 ، ترجيحاً 0.5 الي 5 m-1 مي باشد. 7- يك واكنشگاه بستر ثابت با لايه هاي نازك طبق هر يك از ادعا هاي 1 تا 6 كه در آن ، مقدار مواد جامد تصفيه شدني در هر مدول واكنشگاه در طيف 100 الي 500 كيلوگرم مي باشد. 8- يك واكنشگاه در بستر ثابت با لايه هاي نازك طبق هر يك از ادعا هاي 1 تا 7 كه در آن ، پوسته متخلخل هر مدول متشكل است از يك صفحه صاف به شكل مسطح داراي منافذي كه اندازه آن در طيف 1 تا 20 ميكرون و ترجيحا 5 تا 10 ميكرون مي باشد. 9- فرايندي با بكار گيري هيدروژن جهت كاهش يك كاتاليزور مورد مصرف در سنتز فيشر- تراپش با بكار گيري واكنشگاه طبق هر يك از ادعا هاي 1 تا 8 كه در آن HSV در طيف 0.5 تا 5 و ترجيحاً 1.5 تا 3 N ليتر در ساعت H2 در هر گرم كاتاليزور مي باشد. 10- فرآيندي با بار گيري هيدروژن يك كاتاليزور مورد مصرف در سنتز فيشر تراپش با بكارگيري واكنشگاه طبق هر يك از ادعاهاي 1 تا 8 كه در آن حداكثر دماي كاهش در طيف 300 تا 450 درجه سانتي گراد و ترجيحا در طيف 350 تا 400 سانتي گراد مي باشد. 11- فرآيندي با بكارگيري هيدروژن يك مكاتاليزور مورد مصرف در سنتز فيشر- تراپش، با بكارگيري واكنشگاه طبق هر يك از ادعا هاي 1 تا 8 كه در آن ، افزايش متعاقب جهت صعود دماي واكنشگاه در طيف 1 تا 5 درجه سانتي گراد در دقيقه است. 12- استفاده از يك واكنشگاه مطابق با هر يك از ادعا هاي 1 تا 8 در فرآيندي بتا بكار گيري هيدروژن جهت كاهش يك كاتاليزور با اساس يك فلز نجيب ( قيمتي) بكار گرفته شده جهت اصلاح oil cuts با يك دامنه تقطير در طيف 80 تا 300 درجه سانتي گراد 13- استفاده از يك واكنشگاه مطابق با هر يك از ادعا هاي 1 تا 8 در فرايندي جهت خشك سازي ذرات جامد با قطري در طيف 30 الي 300 ميكرون 14- روشي جهت عملكرد يك واكنشگاه مطابق با هر يك از ادعا هاي 1 تا 7، مشتمل بر مرحله متولي زير: - مرحله 1: بار كردن مواد جامد تصفيه شدني به داخل جريان فوقاني وسايل اندازه گيري با شستشو با يك گاز خنثي كه بطور عام ازت مي باشد - مرحله 2 بار كدن مواد جامد به داخل مدول هاي از طريق وسايل پذيرش - مرحله 3: شتسوي مدول ا مدول هاي بارگيري شده با يك گاز خنثي كه بطور عام ازت مي باشد - مرحله 4: تصفيه مدول هاي بارگيري شده در H2 رقيق شده با ازت ، در يك فشار ثابت ، و متعاقب يك نرخ افزايش در طيف 0.5 تا 5 درجه سانتي گراد در ثانيه - مرحله 5: تصفيه مدول هاي يادگيري شده در H2 د يك فشار و يك دماي ثابت، براي يك دوره ثابت ( مراحل 4 الي 20 ساعت ) - مرحله 6: شتشوي مدول يا مدول ها بعد از تصفيه با بكارگيري يك گاز خنثي كه بطور عام اذت مي باشد - مرحله 7: تخليه مواد جامد با بكار گيري وسايل اندازه گيري جران تحتاني (dav) - مرحله 8: خشك سازي مواد جاكد تصفيه شده تا دمايي در طيف 100 الي 150 درجه سانتي گراد - مرحله 9 :انتقال مواد جامد خشك شده به يكي از طرق زير: الف: مستقيماً به واكنشگاه سنتز فيشر – تراپش يا ب: به مخلوط كننده (Mj) و در اين صورت مخلوط كردن مواد جامد با موم هاي پارافيني با يك نقطه ذوب نزديك به 100 درجه سانتي گراد با يك شستشو با يك گاز خنثي كه كه عموما ازت مي باشد ج) به يك گنجايش مياني - مرحله 10: انتقال مواد جامد كه ممكن است با موم اندود شده باشند بشكه هاي Bs در حالت هاي ب و ج فوق الذكر

روش توليد اسيد فرميك