ايجاد پوشش نانوساختار تانتالوم با استفاده از فرايند رسوب شيميايي از فاز بخار به كمك پلاسما با جريان پالسي مستقيم (Pulsed-DC-PACVD) براي اولين بار در اين اختراع انجام گرفته است. پلاسما را مي-توان با استفاده از منابع تغذيه مختلف اعم از AC، DC، Radio-Frequency(RF)¬ AC و Pulsed-DC ايجاد نمود. در ميان اينها روش RF-PACVD توفيقاتي در¬خصوص اعمال پوشش¬هايي با كيفيت و خلوص مناسب داشته است. با¬اين¬وجود اين روش نرخ رسوب بالايي نداشته (درحدود200-nm/hr300 براي تانتالوم) و به لحاظ يكنواختي پوشش برروي قطعاتي با شكل هندسي پيچيده كارايي مطلوبي ندارد. از سوي ديگر تجهيزات سخت افزاري مبتني بر RF نسبتا پيچيده است؛ اين امر بروزرساني و استفاده از آن در صنعت را به لحاظ اقتصادي توجيه¬ناپذير ساخته است. در مقابل روش Pulsed-DC-PACVD ضمن برخورداري از تجهيزات نسبتا ساده و ارزان، قادر به ايجاد پلاسمايي مناسب براي پوشش¬دهي در دماي نسبتا پايين (زيرC˚500) و با نرخ رسوبي در حدود1-μ/hr3 مي¬باشد كه بصورت يكنواخت¬ قطعاتي با هر شكل هندسي را پوشش¬دهي مي¬كند. همچنين سهولت تجهيز و بروزرساني سخت افزار آن به لحاظ اقتصادي منجر به ايجاد جذابيت بيشتر براي مصارف صنعتي شده¬است. لذا دانش اعمال پوشش¬ نانوساختار تانتالوم با اين روش مي¬تواند زمينه¬ساز گسترش كاربردهاي صنعتي آن در الكترونيك، نفت و پزشكي گردد.