ایجاد پوشش نانو ساختار تانتالوم به روش رسوب شیمیایی از فاز بخار به كمك پلاسما با جریان مستقیم پالسی (Pulsed DC PACVD)
Deposition of nanostructured tantalum coating using pulsed DC plasma assisted chemical vapor depositionm(PACVD)

خلاصه اختراع :

ایجاد پوشش نانوساختار تانتالوم با استفاده از فرایند رسوب شیمیایی از فاز بخار به كمك پلاسما با جریان پالسی مستقیم (Pulsed-DC-PACVD) برای اولین بار در این اختراع انجام گرفته است. پلاسما را می-توان با استفاده از منابع تغذیه مختلف اعم از AC، DC، Radio-Frequency(RF) AC و Pulsed-DC ایجاد نمود. در میان اینها روش RF-PACVD توفیقاتی در خصوص اعمال پوشش هایی با كیفیت و خلوص مناسب داشته است. با این وجود این روش نرخ رسوب بالایی نداشته (درحدود200-nm/hr300 برای تانتالوم) و به لحاظ یكنواختی پوشش برروی قطعاتی با شكل هندسی پیچیده كارایی مطلوبی ندارد. از سوی دیگر تجهیزات سخت افزاری مبتنی بر RF نسبتا پیچیده است؛ این امر بروزرسانی و استفاده از آن در صنعت را به لحاظ اقتصادی توجیه ناپذیر ساخته است. در مقابل روش Pulsed-DC-PACVD ضمن برخورداری از تجهیزات نسبتا ساده و ارزان، قادر به ایجاد پلاسمایی مناسب برای پوشش دهی در دمای نسبتا پایین (زیرC˚500) و با نرخ رسوبی در حدود1-μ/hr3 می باشد كه بصورت یكنواخت قطعاتی با هر شكل هندسی را پوشش دهی می كند. همچنین سهولت تجهیز و بروزرسانی سخت افزار آن به لحاظ اقتصادی منجر به ایجاد جذابیت بیشتر برای مصارف صنعتی شده است. لذا دانش اعمال پوشش نانوساختار تانتالوم با این روش می تواند زمینه ساز گسترش كاربردهای صنعتی آن در الكترونیك، نفت و پزشكی گردد.