در اين اختراع، پوشش نانوساختار Ti با استفاده از فرايند رسوب گذاري شيميايي از فاز بخار با بهره گيري از پلاسما (PACVD) بر روي قطعات ايجاد شد. براي ايجاد پوشش در اين اختراع، علاوه برگازهاي ورودي (هيدروژن و آرگون) از بخار تتراكلريد تيتانيم استفاده شد. در اين فرايند بعد از ايجاد پلاسما انتظار مي رود كه مواد اوليه موجود در محفظه تجزيه شده و يون هاي موردنظر بر روي كاتد (كه محل قرارگيري قطعه مي باشد) قرار گيرند. انتظار مي رود با گذشت زمان، ضخامت پوشش افزايش يابد. در اين فرايند درصد چرخه كار بين 33 تا 80 درصد، ولتاژ اعمالي بين 500 تا 650 ولت، دماي لايه نشاني بين 450 تا 600 درجه سانتيگراد، زمان لايه نشاني بين 1 تا 10 ساعت، فركانس دستگاه بين 6 تا 12 كيلوهرتز، فشار محفظه بين 1 تا 6 ميلي بار در نظر گرفته شد. پوشش نهايي بدست آمده داراي ساختار با اندازه دانه بين 10 تا 120 نانومتر و ضخامت آن بين 1 تا 10 ميكرومتر مي باشد.