كاربردهاي روز افزون فناوري نوين غشايي در جداسازي‌هاي گازي سبب مي‌شود تا توجيه اقتصادي استفاده از اين فناوري در مقياس صنعتي از اهميت ويژه‌اي برخوردار باشد. هزينه‌هاي بالاي ساخت غشاها از يك سو و ايجاد نواقص نانومتري در لايه‌هاي غشايي حين فرآيند سنتز از سويي ديگر، سبب مي‌شود كه استفاده از روش‌هاي ترميم اين نواقص نانومتري به عنوان يك راهكار مناسب براي استفاده‌ي مجدد از غشاهاي داراي نقص مطرح شود. يكي از روش‌هاي موثر در ترميم نواقص نانومتري لايه‌هاي غشايي استفاده از فرآيند رسوب شيميايي فاز مايع (CLD) مي‌باشد. در اين روش با توجه به جنس لايه‌ي غشايي از دو محلول كه يكي حاوي ماده‌ي رسوب دهنده و ديگري حاوي ماده‌ي رسوب كننده است استفاده ‌مي‌شود. تماس اين دو محلول در درون نواقص نانومتري و تشكيل رسوب در محل تماس منجر به مسدود شدن يا كاهش اندازه‌ي نواقص مي‌شود كه در نتيجه‌ي آن تاثير منفي حضور نواقص بر عملكرد غشاها كاهش مي‌يابد تا غشا از عملكرد مناسبي برخوردار شود. نتايج آزمون‌هاي عملكردي براي نمونه‌هاي غشايي از بهبود عملكرد آن‌ها بعد از انجام فرآيند ترميم حكايت دارد به طوري كه در مورد غشاي زئوليتي DD3R انتخاب‌پذيري غشا براي گازهاي نيتروژن و متان تا 5/3 برابر افزايش يافته است.