فرايند فتوكاتاليتيكي يكي از فرايندهاي اكسايش پيشرفته به شمار مي آيد كه به منظور تصفيه ي آلاينده هاي موجود در آب، پساب و هوا مورد استفاده قرار گرفته است. اين فرايند به دليل قابليت تبديل انرژي خورشيدي به انرژي شيميايي و كنترل آلودگي به طور گسترده مورد توجه قرار گرفته است و در آن از ذرات نيمه رسانا به عنوان فتوكاتاليست استفاده مي شود. اين فرايند بر پايه ي توليد گونه هاي بسيار فعال (مانند راديكال هاي هيدروكسيل) استوار است كه مي تواند گستره وسيعي از آلاينده هاي آلي را به سرعت اكسيده نمايد. طي فرايندهاي اكسايش فتوكاتاليتيكي، مواد آلاينده در اثر تابش نور و در حضور كاتاليست هاي نيمه رسانا تخريب شده و به CO2 و H2O تبديل مي شوند (بسته به نوع نيمه رسانا، منبع نور مورد استفاده متفاوت است). كاربردهاي اصلي كه براي اين تكنولوژي مورد بررسي قرار گرفته است شامل حذف و تخريب رنگ ها، معدني سازي تركيبات آلي خطرناك، تخريب مواد معدني خطرناك از قبيل سيانيدها، پالايش و گندزدايي آب، تخريب تركيبات بد بو، آلودگي زدايي خاك، پالايش و آلودگي زدايي هواي محيط هاي بسته است. در بين فتوكاتاليست ها، TiO2 و ZnO به طور گسترده مورد استفاده قرار گرفته اند. اين فتوكاتاليست ها براي فعال سازي به پرتو UV نياز دارند و اين در حالي است كه پرتو UV موجود در نور خورشيد نسبتا كم است (%5-3). اين در حالي است كه شكاف انرژي (Band Gap) براي هماتيت (اكسيد آهن)، 2/2 الكترون-ولت بوده و لذا مي تواند با نور مريي فعال شود. فرايند پاشش حرارتي يكي از فرايندهاي پوشش دهي بوده كه به دليل قابليت تجاري بودن به طور گسترده مورد توجه قرار گرفته است و لذا از اين فرايند به منظور پوشش دهي اكسيد آهن استفاده شده است.

خط توليد پيوسته نان سنتي ايراني به كمك گاز فوق بحراني كه در طبقه نيازهاي انساني و زير طبقه مواد غذايي مي‏گنجد به شرح ذيل مي‏باشد. در يك اكسترودر با دو ماردون با اضافه نمودن آرد همراه با مواد افزودني جامد در درگاه اول و آب و افزودني‏هاي مايع در درگاه دوم و سپس با استفاده از مدول‏هاي هم‏زن خمير مورد نياز جهت توليد نان ايجاد مي‏گردد. سپس سيالي‏ مانند گاز كربنيك، اكسيژن، هوا، نيتروژن و يا ديگر گازهاي خوراكي در حالت فوق بحراني و تحت فشار در درگاه سوم به خمير ايجاد شده در اكسترودر تزريق مي‏شود. پس از گذشت از مدول‏هاي اختلاط كه باعث جذب كامل سيال فوق بحراني در خمير مي‏شود، محلول ايجاد شده از يك قالب عبور نموده و به شكل نهايي جهت پخت وارد تنور مي‏گردد. اين محلول خمير و گاز فوق بحراني مستقيماً وارد قسمت تششع اوليه تونل تنور گشته، كه سطح آن در حالت ايده‏آل تثبيت گردد. سپس جهت پخت در طول تونل تنور براي مدت حداقل دو و حداكثر پنج دقيقه در دماي 240 درجه سانتيگراد حركت مي‏نمايد. سپس جهت ايجاد سطح با كيفيت مورد پسند در انتها از ناحيه تشعشع ثانويه تنور عبور مي‏نمايد.

در اين تحقيق با استفاده از كاتاليست هاي انتقال فاز به توليد پليمرهاي پلي سولفايد گرمانرم بر پايه تيلن دي كلرايد با استفاده از پلي سولفايدهاي معدني كه از تركيب گوگرد و هيدروكسيد سديم سنتز مي شوند، پرداخته شده است. استفاده از كاتاليست فوق موجب افزايش ميزان تبديل پليمرهاي فوق در مقايسه با پليمرهاي پلي سولفايد سنتز شده از اتيلن دي كلرايد دارند.

ساخت پيچ هاي خود پاك كن براي اكسترودرها با استفاده از ماشين هاي تراش، پيچ زني و CNC عملا مقدور نيست. با تهيه يك تيغچه مناسب به روشي كه ما ارائه داده ايم، ساخت پيچ خود پاك كن با دقت عالي و هزينه اندك امكانپذير مي شود. همچنين با بكارگيري اين روش با استفاده از يك دستگاه تراش ساده مي توان پيچ هاي خود پاك كن بسيار مناسب ساخت. از مزاياي اين روش مي توان به دقت، سادگي، سرعت ساخت و كم هزينه بودن آن اشاره نمود.

طراحي و ساخت قالب سه لايه چرخان براي توليد فيلم هاي چند لايه براي نخستين بار در دنيا انجام شد. اين قالب داراي قسمت هاي ثابت و چرخان با قابليت كنترل سرعت چرخش است. چرخش لايه هاي قالب سبب توزيع يكنواخت مواد درون قالب و لذا تشكيل فيلمي با ضخامت يكنواخت مي شود.

در اين تحقيق با استفاده از ضايعات كلر دار واحدهاي وينيل كلرايد پليمرهاي ترموپلاستيك صنعتي پلي سولفايد با استفاده از تركيب گوگرد و هيدروكسيد سديم تهيه شده است. پليمرهاي فوق خواص مختلفي از پليمرهاي پلي سولفايد تهيه شده از اتيلن دي كلرايد دارند.

در فرايند فتوكاتاليتيكي، آلودگي هاي آلي در حضور فتوكاتاليست هاي نيمه هادي، يك منبع نوري مناسب و عوامل اكسنده تخريب مي شوند. تنها فوتون هايي با انرژي بزرگ تر از انرژي كاف نوار مي توانند منجر به برانگيختن الكترون هاي نوار ظرفيت گردند. اگرچه معمولا TiO2 به دليل فعاليت فتوكاتاليتيكي بالا، پايداري شيميايي (فيزيكي) و غيرسمي بودن بيش ترين تحقيقات را به خود اختصاص داده است اما اغلب ZnO به عنوان يك جايگزين مناسب براي TiO2 در كاربردهاي فتوكاتاليتيكي مطرح شده است. مشكل اصلي هر دوي اين نيمه هادي ها، نياز به استفاده از پرتو UV مي باشد. به همين دليل برخي ديگر از نيمه هادي ها از جمله اكسيد آهن (هماتيت) مورد توجه قرار گرفته اند. پوشش اكسيد آهن ايجاد شده توسط فرايند پاشش شعله اي، هر چند داراي عملكرد فتوكاتاليتيكي تحت تابش نور مريي بوده است ولي فتو اكتيويته بالايي براي آن گزارش نشده است. لذا به منظور بهبود عملكرد فتوكاتاليتيكي (تحت تابش نور مريي) نيمه هادي فريت روي انتخاب و از فرايند پاشش حرارتي (شعله اي) به عنوان يك روش كارامد صنعتي براي پوشش دادن آن استفاده شده است.