ميكروماشينكاري عمودي و عميق سيليكون به روش سونش شيميايي با كاتاليست فلزي، حوزه جديدي در صنعت ميكروالكترونيك و تكنولوژي MEMS گشوده است. اين روش سونش سيليكون، يك روش سونش غير همسانگرد است؛ بطوريكه با كنترل پارامترهاي سونش، مي توان سيليكون را بصورت عميق و عمودي سونش كرد. در اينجا با استفاده از طلا بعنوان كاتاليست و فوتورزسيت بعنوان لايه ماسك براي سونش، به عمق سونش 60um براي ابعاد 2 ميكروني دست يافته شد. عموماً از دستگاه هاي سونش خشك براي اين منظور استفاده مي شود كه بسيار گران قيمت بوده و براي ويفرهاي بزرگ نيز قابل استفاده نيستند. نتايج بدست آمده نشان مي دهد كه روش پيشنهاد شده، تنها روش قابل مقايسه با روش هاي مرسوم سونش خشك در سرعت سونش، نسبت ابعاد، عمود بودن و صافي ديواره ها است؛ در عين حال بسيار مقرون به صرفه بوده و قابليت استفاده براي ويفرهاي بزرگ را نيز دارا است. كاربرهاي متنوعي براي اين اختراع مي توان متصور بود، كه به حوزه هاي تكنولوژي سنسور، خودروسازي، صنايع موشكي و فضايي، پزشكي، سلول هاي خورشيدي نيمه هادي و ميكروالكترونيك فركانس بالا، ارجاع پيدا مي كند.