دستگاه پوشش دهي الكتروشيميايي به عنوان يكي از تكنيك هاي تغليظ مواد، جداسازي و استري سطوح مختلف در حد ميكرو و نانومتر ساخته شد. اين اختراع در دو حجم مختلف انجام شد اول با يك سل تا گنجايش 25 ميلي ليتر و دوم در يك سل تا گنجايش 1000 ميلي ليتر. از الكترودهاي مس، آهن زنگ ضد زنگ، گرافيت و پلاتين استفاده شد و ولتاژي مابين 5 تا 7 ولت و طول زماني مابين 10 الي 40 دقيقه به عنوان بهترين زمان به دست آمد. نمونه هاي مختلف طبيعي مورد آزمايش قرار گرفت و استرهايي با ضخامت هاي نانومتري و ميكرومتري ايجاد شد. آزمايشات نشان مي دهد كه سطوح به دست آمده يكنواخت مي باشد.

براي تهيه محلول نانوسيليكا و پودر نانو سيليكا از غبارات سيليسي كارخانه پيرومتالورژي چندين مرحله وجود دارد مرحله اول تهيه سديم سيليكات از سيليكافيوم به روش ذوب قليايي مي باشد كه در يك ثبت اختراع ديگر به تفصيل توضيح داده شده است.ك پس از اين مرحله نسبت SiO2 و Na2o سديم سيليكات با استفاده از رزين تبادل كاتيوني تنظيم شده و غلظت آن به دلخواه و با تبخير آب اضافي تعيين مي گردد. سديم سيليكات موجود با تنظيم شراي ويژه از نظر طول و قطر ستون تعيين ظرفيت رزين دماي رزين و محلول در حين عبور از بستر به اسيد سيليسيك فعال تبديل مي شود. مرحله بعد هسته زايي و پايدار كردن اسيد سيليسيك ناپايدار به سيليكا سل رقيق مي باشد. در اين مرحله با تنظيم غلظت سديم دما و سرعت ورود اسيد سيليسيك فعال به سود هسته زايي و رشد ذرات به اندازه دلخواه انجام مي شود. سپس با خروج آب اضافي بوسيله تبخير در خلا يا سيستم اولترافيلتراسيون سيليكا سل غليظ با غلظت 25٪ - 15 SiO2% بدست مي آيد. در پايان بوسيله دستگاه خشك كننده پاششي سيليكا سل غليظ به پودر نانو سيليكا تبديل مي شود. مراحل مذكور جهت تهيه محلول نانوسيليكا و پودر نانو سيليكا در شكل شماره 1 نشان داده شده است.