دستگاه تولید نانوذرات و نانوپوشش ها به روش تخلیه الكتریكی رادیوفركانسی در فشار مثبت

خلاصه اختراع :

دستگاه مولد تخلیه الكتریكی اسپارك با طراحی محفظه فشار مثبت، می تواند با استفاده از تخلیه الكتریكی رادیوفركانسی ولتاژ بالا در بین دو الكترود در محیط گاز خنثی با مقادیر فشار بالاتر از اتمسفر، نانوذرات فلزی، آلیاژی، كامپوزیتی و نیمه رسانا با اندازه كوچكتر از 10 نانومتر تولید نموده و روی یك زیرلایه پوشش دهد كه نرخ تولید با آن وابسته به جنس و خواص حرارتی الكترودها بین g/hr 0/5-0/08 است. تكنیك جمع آوری ذرات بكار رفته در طراحی محفظه این دستگاه یك تكنیك منحصر به فرد می باشد كه برای اولین بار در ایران و دنیا به انجام رسیده است. در این تكنیك با آگاهی از قانون فیزیك معروف به قانون پاچن، از مقادیر فشار مثبت گاز به عنوان عاملی برای افزایش نرخ تولید استفاده شده است و نانوذرات ترسیب یافته روی دیواره داخلی محفظه، پیش از قرارگیری در معرض هوا، در معرض محلول محافظت كننده ای مثل محلول هگزان آمده و از اكسیداسیون محافظت می شوند.