لیست اختراعات با مالکیت
علیرضا صبورروح اقدم
25 عدد
هدف از پاشش حرارتي HVOF آنست كه انرژي حرارتي و انرژي جنبشي به ميزان زيادي به ذرات پودر منتقل شوند. اين انرژي از تلفيق و احتراق گاز سوختي و اكسيژن حاصل مي¬شود و ذرات پودر را با سرعت زياد به سمت زيرلايه پرتاب مي¬كند و بدين ترتيب پوشش با تراكم، استحكام چسبندگي و سختي زياد بدست مي¬دهد. به منظور بهره¬برداري از فرايند HVOF، به مجموعه¬اي از واحدها و تجهيزات مختلف مي¬باشد كه با تلفيق و يكپارچه نمودن آنها مجموعة پاشش حرارتي HVOF امكان پوشش¬دهي و استفاده صنعتي را مقدور مي¬سازد. در اين اختراع تلاش شد كه بجاي خريد و واردات اين تجهيزات از شركت¬هاي سازنده و يا فروشنده خارجي، كليه اقلام از امكانات داخل كشور طراحي، ساخته و يا تهيه شوند. به منظور تأمين گازهاي اكسيژن و سوخت (پروپان) از منيفولدهاي مناسب جهت سري نمودن سيلندرهاي گاز استفاده شد تا مصرف فلوي زياد گازها (اكسيژن: تقريباً lit/min250 و پروپان: تقريباً lit/min60) تأمين گردد. همچنين خط توليد هواي فشرده مورد نياز در افشانه طي فرايند پاشش، در واحدهاي ماسه¬پاشي و خنك¬كاري برپا شد تا به واسطه تهيه و نصب كمپرسور مناسب و تجهيزات جانبي مورد نياز، هواي خشك و بدون روغن توليد شود. از سوي ديگر، به منظور انجام فرايند پاشش در فضايي مناسب با تهويه مورد نياز با رعايت اصول ايمني و سلامتي، يك كابين فولادي از ديواره¬هاي دوجداره ساخته شد كه فضا شامل محفظه تهويه تر (scrubber) نيز مي¬شود. علاوه بر آن، يك ميز كار فولادي نيز طراحي و ساخته شد تا افشانه HVOF و فيكسچر نمونه¬اي كه بايد پوشش داده شود، بر روي آن نصب شوند. همچنين با طراحي و ساخت و نصب تجهيزات كنترل الكترونيكي و مكانيكي در ميز كار، اهرم¬هاي حركتي افشانه در جهات X و Y براي نمونه¬هاي مسطح و چرخش نمونه¬هاي استوانه¬اي بر روي فيكسچر نيز لحاظ شدند.
اختراع حاضر با عنوان "پوشش دهي الكتروشيميايي نقره-ژرمانيوم" با بهينه كردن درصد ژرمانيوم در پوشش، بررسي دانسيته جريان، pH و افزودني ها، حصول شرايط ايده¬آل براي رسوب¬نشاني هم¬زمان نقره-ژرمانيوم به دست آمده است. جهت بررسي وجود و درصد ژرمانيوم و نقره در پوشش از آزمون¬ طيف¬سنجي پلاسماي جفت¬¬شدۀ القايي (ICP)، براي آناليز عنصري از ميكروسكوپ الكتروني مجهز به سيستم طيف¬سنجي پراكندگي انرژي پرتوايكس (EDS)، بررسي ريزساختار نمونه¬ها از تصويربرداري ميكروسكوپ الكتروني روبشي(SEM)، و براي شناسايي فازهاي تشكيل شده از الگوي پراش پرتو ايكس(XRD) استفاده شد. براي بررسي رفتار پلاريزاسيون از آزمون خوردگي در محيط حاوي گوگرد بهره گرفته شد. در اين شرايط و در دماي محيط، محصول خوردگي ناشي از واكنش مس زيرلايه با اكسيژن و گوگرد محيط و همچنين واكنش نقره با گوگرد سطح قطعات را پوشانده و موجب مي شود كه سطح قطعه كدر شود. افزايش ژرمانيوم در پوشش تا 6 درصد انجام گرفت اما با توجه به كيفيت پوشش و نتايج آزمون كدرشوندگي، نمونه 6/1 درصد ژرمانيوم به عنوان نمونه بهينه انتخاب گرديد. پوشش نقره-6/1درصد ژرمانيوم موجب بهبود مقاومت به كدرشدگي و كاهش جريان خوردگي تا ده برابر نسبت به نقره خالص مي¬شود. تشكيل لايه محافظ اكسيد ژرمانيوم موجب جلوگيري از كدرشدگي پوشش و زيرلايه مي شود.
در اين كار پوشش مورد نظر از طريق حمام آبكاري وات اعمال شد كه براي ايجاد آلياژ نيكل كبالت به اين محلول سولفات كبالت نيز اضافه شد. آلوميناي موردنظر هم به محلول اضافه شد كه با اعمال چرخه هاي متفاوت جريان مستقيم و پالسي نمونه با بيشترين ميزان آلومينا در پوشش بهينه شد. براي اين كار ابتدا نمونه هاي نيكل خالص آبكاري شد تا بهترين جريان مناسب براي نمونه نيكلي بدست آيد. سپس در همين جريان، نمونه آلياژي بهينه شد و در نهايت نمونه كامپوزيتي تهيه شد. براي تهيه نمونه كامپوزيتي از جريان هاي مستقيم و پالسي گوناگون استفاده شد و پس از بررسي نمونه ها مناسبترين روش تهيه اين نمونه استخراح شد.
در اين اختراع محلول پوشش دهي نانو ذرات هگزا فريت باريم به منظور اعمال پوشش هاي فرآيند - سل - ژل هگزا فريت باريم ساخته شده است. ادعا: 1- اعمال پوشش نانو ساختار 2- اعمال پوشش هاي لايه نازك 3- اعمال پوشش همگن و يكنواخت 4- اعمال پوشش بر روي انواع مختلف زير لايه همانند فولاد، شيشه، چوب و ... 5- كاهش درصد ترك پوشش 6- سهولت تشكيل محلول پوشش دهي و اعمال پوشش لايه نازك.
در اين اختراع محلول پوشش دهي نانو ذرات اكسيد تيتانيوم (TiO1) منظور اعمال پوشش هاي فرآيند - سل - ژل اكسيد تيتانيوم ساخته شده است. ادعا: 1- اعمال پوشش نانو ساختار 2- اعمال پوشش هاي لايه نازك 3- اعمال پوشش همگن و يكنواخت 4- اعمال پوشش بر روي انواع مختلف زير لايه همانند فولاد، شيشه، چوب و ... 5- كاهش درصد ترك پوشش 6- سهولت تشكيل محلول پوشش دهي و اعمال پوشش لايه نازك.
در اين اختراع سرعت رفت و برگشت دستگاه غوطه وركننده به وسيله تغييرات ميكرو ولتاژي كنترل مي گردد. ادعا: 1- اعمال پوشش نانو ساختار 2- اعمال پوشش هاي لايه نازك 3- كنترل ضخامت پوشش به وسيله تغيير ميكرو ولتاژي و در نهايت كنترل سرعت رفت و برگشت. 4- كنترل خواص فيزيكي و مكانيكي پوشش به وسيله تغييرات ميكرو ولتاژي. 5- كنترل درصد ترك پوشش به وسيله تغييرات ميكرو ولتاژي. 6- كنترل سرعت رفت و برگشت بدون هيچ گونه لغزش در حين حركت. 7- تغيير حالت رفت و برگشت بدون هيچگونه شوك.
كشف مورفولوژي و تركيب پوشش نانو بلوري پلاسمايي جرقه كوچك
موارد یافت شده: 25